为深化半导体领域产教融合，助力微专业人才培养与技术创新，11月1日下午，我校特邀半导体行业资深专家、浙江创芯集成电路有限公司运营副总裁秦宏志主讲，为师生带来一堂主题为 “离子注入设备” 的课程。秦宏志凭借深厚的学术积淀与丰富的产业经验，系统解析离子注入技术的核心原理、设备构造及行业应用，为在场师生奉上了一场兼具理论深度与实践价值的知识盛宴。课程面向我校微专业学生、DBU大学研究生以及对此课程有浓厚兴趣的学生，通过线下与线上同步授课的形式，吸引了百余人的参与。课程由数理学院副院长（主持工作）林佳主持。
课程中，秦宏志以“离子注入原理及应用”为核心，从工艺介绍、设备组成、工艺监控到行业应用，层层深入展开讲解。他首先明确离子注入是半导体掺杂的关键方法，通过将杂质电离成离子束，经电场加速注入硅靶实现掺杂，相比传统扩散工艺，具有低温操作、可独立控制结深和浓度、各向异性等显著优势。随后，他详细拆解了离子注入机的核心系统，包括产生离子束的离子源（等离子体型、液态金属离子源）、筛选杂质离子的质量分析器、加速离子束的加速器，以及聚焦、偏转扫描等关键组件，结合粒子束路径示意图，直观呈现了设备的工作流程与核心原理。同时，他结合实际生产案例，介绍了低电流、大电流、高能等不同类型离子注入机的应用场景，以及在Well注入、VT调整注入、LDD注入等CMOS工艺中的具体要求，让学生清晰了解技术在芯片制造中的实际应用逻辑。
互动环节中，秦宏志针对学生提出的“离子注入与扩散工艺的优劣对比”“先进制程中离子注入技术的发展趋势”“产业对人才能力的核心需求”等问题，结合自身产业经验与学术研究进行细致解答。他指出，核心技术无法依赖引进，半导体行业的发展需要兼具理论基础与实践能力的复合型人才，鼓励学生深耕专业知识，关注行业动态，主动参与实践创新。
秦宏志作为半导体晶圆制造及工厂运营领域的权威专家，履历丰富且成果卓著，他历任中芯国际深圳公司厂长及总经理、浙江大学微纳电子学院浙江省集成电路创新平台运营副总裁，为两家制造企业的硅基CMOS线的建设和运营做出了突出贡献，受到产业界的广泛认可，为国内多家半导体制造企业提供咨询服务。目前，秦宏志在北京大学集成电路学院攻读博士学位，同时兼任浙江大学、香港中文大学龙岗校区等高校的企业导师，以及深圳信息职业技术学院特聘教授。
学校将以“半导体物理基础与实践”微专业为抓手，持续深化离子注入技术教学与科研。教学上，依托达拉斯浸会大学合作，引入行业专家，推动课程内容与产业需求精准对接，培养更多适应半导体行业发展的高素质技术人才，为我国集成电路产业高质量发展贡献力量。
数理学院 供稿